Skip to content

dépôt de couche atomique industrielle assistée par plasma

Une cellule solaire TOPCon atteint 24,2 % de rendement grâce à une nouvelle technologie de dépôt de couche atomique assistée par plasma

Une équipe de chercheurs internationaux a simplifié le dépôt des couches minces dans la production commerciale des cellules solaires TOPCon. Grâce à une technique de dépôt de couche atomique industrielle assistée par plasma (PEALD) de type tunnel, l’équipe a pu atteindre un rendement de conversion énergétique de 22,8 % sur un module TOPCon de 613 W comportant 60 cellules.

This website uses cookies to anonymously count visitor numbers. To find out more, please see our Data Protection Policy.

The cookie settings on this website are set to "allow cookies" to give you the best browsing experience possible. If you continue to use this website without changing your cookie settings or you click "Accept" below then you are consenting to this.

Close